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接上篇帶您繼續了解擴散爐爐體

一．設備概述：全自動擴散爐采用電腦工控機軟件控制方式，該設備用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件

1.可分段獨立加熱，烘道各段溫度可手動控制。2、干凈衛生，采用電加熱。3.PVC帶，循環干燥模式，鏈傳動。4

擴散爐是半導體生產線前處理的重要工藝設備之一。它用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光纖中的擴

擴散過程是一種將雜質引入硅材料的方法。在高溫（通常為900-1200℃）條件下，利用熱擴散原理將摻雜元素（通

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